比病毒还窄的光波被用于在硅片上刻蚀电路
现代半导体制造利用波长比病毒还窄的极紫外光，在芯片上刻蚀数十亿个晶体管。这不断挑战微型化和计算能力的物理极限。
工程师现使用波长仅 13.5 纳米的极紫外光（EUV）在硅片上刻蚀复杂电路。这种光比大多数病毒还要小，能制造 2 纳米制程。这种精度使现代晶体管比 1971 年的 Intel 4004 处理器小 10 万倍。
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